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氮化硅(12033-89-5)的中试大生产工艺;技术转让、技术求购 氮化硅(12033-89-5)
如果您拥有或者需要氮化硅(12033-89-5)的成熟中试或大生产工艺,欢迎在此提交给化学汇,我们承诺未经您的允许不会在平台进行发布或对第三人公布。 产品名称:氮化硅(12033-89-5) 类型:我有技术我要技术 技术状况:小试工艺中试工艺大生产工艺 合作方式:技术转让合作生产两者均可 原料成本:生产成本: 联系方式: 备注:
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CAS:12033-89-5
CAS:12033-89-5英文名Silicon nitride
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分子式 N4Si3 分子量 140.2833
退税率 海关编码
是否需要商检 HS查询 是否危险品 CHEMBLINK   |   SIGMA
别名(英文) Siliconnitridemeshlightgraypowder; trisilicon tetranitride; Siliconnitridepowderprimarilyphase; Silicon (IV) nitride 别名(中文) 四氮化三硅; 四氮化三硅 ; 氧化镁粘结型氮化硅溅射靶; 氮化硅粉末; 氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 50.8MM (2.0IN) DIA X 3.18M; 氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 50.8MM (2.0IN) DIA X 6.35M; 氧化镁粘结型氮化硅(IV)溅射靶, 76.2MM (3.0IN) DIA X 3.18M
外观物理性质 储存条件
用途
备注信息

SMILES

N12[Si]34N5[Si]16N3[Si]25N46

基本物理化学性质


      氮化硅(Si3N4)存在有3种结晶结构,分别是α、β和γ三相。α和β两相是Si3N4最常出现的型式,且可以在常压下制备。γ相只有在高压及高温下,才能合成得到,它的硬度可达到35GPa。 
      灰白色α晶型粉末。由于它具有金刚石型三维晶格结构,所以具有高温热稳定性、抗热震性、化学稳定性和良好的电绝缘性及质硬性。氮化硅熔点1900℃,相对密度3.44。在空气中加热到1450~1550℃仍稳定。易溶于氢氟酸,不溶于冷、热水及稀酸,对于浓硫酸和浓氢氧化钠溶液作用也极缓慢。 

产品用途


       在化学工业,氮化硅陶瓷用作耐磨、耐蚀部件。如球阀、泵体、燃烧汽化器、过滤器等。
       在治金工业,由于氮化硅陶瓷耐高温,摩擦系数小,具有自润滑性。对多数金属、合金溶液稳定,因此,可制作金属材料加工的工模具,如拨菅芯棒、挤压、拨丝模具,轧辊、传送辊、发热体夹具、热偶套营、金属热处理支承件、坩埚,铝液导营、铝包内衬等。
        氮化硅陶资材料在电子、军事和核工业方面也有广泛应用。

生产方法


          主要有硅粉直接氮化法、二氧化硅还原法和氯化硅法。在大规模工业生产中,二氧化硅还原法更为人们所重视。
          二氧化硅还原法二氧化硅粉末100份(重量份,下同),混入炭黑35份,尿素树脂100份,然后加入800份水、0.1份氧化铝(作反应核用)、1份草酸铵和0.3份非离子表面活性剂(作分散剂),进行强搅拌,并在搅拌中加入氨水调整Ph值为9.0。将此混合好的料浆喷雾干燥,所得干燥物在电炉中,在氮气氛中,在1480℃进行3 h氮化还原反应。再将还原反应产物于。720℃,在空气中进行脱炭处理,制得氮化硅粉末成品。
SiO2+C→SiO+CO
3SiO2+3C+N2→Si3N4+3CO 







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